電鍍設（shè）備拋光液的組（zǔ）成及其他影響因素

    電鍍設備化學拋光是指（zhǐ）在合適的溶液中，不使用外（wài）接（jiē）電源，依靠化學浸蝕作用對工件進（jìn）行的拋光。在化學拋光過程中，由於金（jīn）屬微觀表麵形成了不（bú）均勻的鈍化膜，或由於形成了類似電解拋光過程中所形成的稠質黏（nián）膜，從而使表麵微觀凸出部分的溶解速度顯（xiǎn）著大於微觀（guān）凹（āo）入部分，因此降（jiàng）低了零件的表麵顯微粗糙程度，使零件表麵比較光亮和平整。化（huà）學拋光（guāng）廣（guǎng）泛應（yīng）用（yòng）於不鏽鋼、銅及鋁合金等的拋光，還用於對一些零件做裝飾加工。化學拋光可作（zuò）為電鍍前的處理工序（xù），也可在拋光（guāng）後（hòu）輔以必要的防護措施而直接使（shǐ）用。

     電鍍設備拋光液組成：為了（le）保證（zhèng）化學拋光的效果，必須使金屬表麵溶解，並在表麵（miàn）形成（chéng）前述的（de）液體膜或（huò）固體膜（mó）。化學拋光液的基本組成一般包括腐蝕劑、氧化劑、添加劑和（hé）水。其（qí）中，腐蝕劑是主要成分，主要使工件在溶液中溶解;氧（yǎng）化劑和添（tiān）加劑可抑製腐蝕過（guò）程，使反應朝有利於拋（pāo）光的方向進行;水對溶液濃度起調節作用（yòng），便於反應產物的擴散。

      電鍍設備用作金屬溶解的成分一般是酸，其中用得較多的是H2S04、HN03、HC1、H3PO。、HF等強酸，而對鋁那樣的（de）兩性金屬，也可（kě）用（yòng）NaOH，在這些酸中由於高濃（nóng）度的磷酸和硫酸都具有較高的黏度，可形成（chéng）液體膜擴散層，故這種成分具有兩種功（gōng）能。這也是在化學拋光液的組成中（zhōng）主要采用磷（lín）酸和硫酸的原因。為了提（tí）高黏度，使擴散層容（róng）易形成，也可加進明膠或甘（gān）油等能提高黏度的添加劑。為了促進固體膜的形（xíng）成，則需加入以硝酸（suān）或鉻酸為主（zhǔ）的強氧化（huà）劑。