電鍍設備銅中氯離子消耗過大的原因

電鍍（dù）設備鍍銅（tóng）時線路板板麵的低電流區出（chū）現"無光澤"現象，氯方子濃度偏低;一（yī）般（bān）通過（guò）添加鹽（yán）酸後，板麵低電流密度區的鍍層"無光澤"現象才能消失，鍍液中的氯離子濃度才能達到正常範圍，板（bǎn）麵鍍層光亮。如果要通（tōng）過添加大量鹽酸（suān）來解決低（dī）電流密度區鍍層"無光（guāng）澤"現象，就不一定是氯（lǜ）離子濃（nóng）度太低而造成的，需分析其真正的原因。如（rú）果采取添加大量鹽酸：一（yī）來，可能會產生其（qí）它後果（guǒ），二來增加生產成本，不利於企業競爭。

通過添加大量的鹽酸來消除"低電流密度區（qū）鍍層（céng）不光亮"現象，說明如是氯離子過少，才需添（tiān）加鹽酸來增加氯離子的濃度達到正（zhèng）常範圍，使低電流密度區鍍層光亮。如果要添加成倍的鹽酸才能使氯離子的濃度達到（dào）正（zhèng）常範圍?是什麽在消耗大量的（de）氯離子（zǐ）呢?氯離子濃度太高（gāo）會使光亮劑消耗快。說明氯離子與光亮劑會產生反應，過量的（de）氯離子會消耗;反過來，過（guò）量的光（guāng）亮劑也消耗氯離子。因為氯離子過少和（hé）光亮劑過量都是造成低電流密（mì）度區鍍層不光亮"的主要原因，因此可見，造成"鍍銅中（zhōng）氯離子消耗過大的主要原因是光（guāng）亮劑濃度太高。

目前隨著印製線路板向高密度、高（gāo）精度方向發展（zhǎn），電鍍設備對硫酸鹽鍍銅工藝提出了更加嚴格的要求，電鍍設（shè）備必須同時控製好鍍銅工（gōng）藝過程中的各種因素，才（cái）能獲得高品質的鍍層（céng）。