電鍍設（shè）備的工藝技術第二節

前麵我沒已經介紹了電鍍設備的分散能力（lì），合金電鍍技（jì）術，整（zhěng）平能力，那麽（me）今天小（xiǎo）編繼續帶你了解電鍍設備的工藝技術
電鍍設備工藝技術一：針孔（kǒng）或麻（má）點：氫（qīng）氣呈氣泡形式粘附在陰極表麵上（shàng），阻止金屬在這些（xiē）部位沉積（jī），它隻能沉積在氣泡的周圍，如果氫（qīng）氣泡在（zài）整個電鍍過（guò）程中一直（zhí）停留在陰極表麵，則（zé）鍍好的（de）鍍層就會有空洞或貫通的縫（féng）隙；若氫氣泡在電鍍過程中粘（zhān）附（fù）得不牢固，而是間歇交替（tì）地逸出和粘附，那麽這些部（bù）位將形成淺坑或（huò）點穴，在電鍍工業中（zhōng）通常稱它為針孔或麻點。
電鍍設備工藝技（jì）術（shù）二：鼓泡（pào）：電鍍以後（hòu），當周圍介質的溫度（dù）升高時（shí），聚集在基（jī）體金屬內的吸附氫會膨脹而使鍍層產生小鼓泡，嚴重地影響著鍍層的質量。這種現象（xiàng）在電鍍鋅、鎘（gé）、鉛等金屬時尤為明顯。
電鍍設備工藝技術三（sān）：覆蓋能（néng）力：覆蓋能力（或深（shēn）鍍能力）也是鍍液的一個重要性能指標，是指在一定的電解條件下使沉積金屬在陰極零（líng）件表麵全：部覆蓋的能力，即在特（tè）定條（tiáo）件下於凹槽或深孔中沉積金屬（shǔ）鍍層的能力，它是指鍍層（céng）在（zài）零件上分布的完整程度。
電（diàn）鍍設備工藝技（jì）術四：氫脆（cuì）：氫離（lí）子在陰極還原後（hòu），一部分形成氫（qīng）氣（qì）逸出，一部分（fèn）以原子氫的狀態滲入基（jī）體金屬（shǔ）（尤其是高強度金屬材料）及鍍（dù）層中，使基（jī）體金屬及鍍（dù）層的韌性（xìng）下降而變脆，這種現（xiàn）象叫做“氫脆”。