電鍍設備工藝要求有什麽？

1.鍍層與基體（tǐ）金屬、鍍層與（yǔ）鍍層之間，應有良好的結合力。

2.鍍（dù）層應結晶細致、平整、厚度均勻。

3.鍍層應具有規定的厚（hòu）度和盡可能（néng）少的孔隙。

4.鍍層應具有規定的各項指（zhǐ）標，如光亮度、硬度、導電性等。

5.電鍍時間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度（dù）的大小。

6.環（huán）境溫度為-10℃~60℃。

7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。

8.水處理設備最大工作噪聲應不大於（yú）80dB(A)。

9.相對濕（shī）度(RH)應不（bú）大於95%。

10.原水COD含量為100mg/L~150000mg/L。