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電鍍設備電鍍技術如何(hé)展現(xiàn)?

電鍍設備電鍍技術又稱為電沉積,是在(zài)材料(liào)表麵獲得金屬(shǔ)鍍層的主要方法之一。是在直(zhí)流電場的作(zuò)用下,在電解質溶液(鍍液)中由陽極和陰極構成回路,使溶液(yè)中的金屬離子沉積到陰極鍍件表麵上的(de)過程; 電流效率 :用於沉積金屬的(de)電量占總電量的比稱為電鍍的電流效率。
分散能力:鍍液的分散能力是指一定的電解條件下使沉積金屬在陰極零件表(biǎo)麵上分布均(jun1)勻的能力。

合金電鍍:兩種或兩(liǎng)種以上金屬離子在陰極上共(gòng)沉積形成均勻細致鍍層的過程叫做合金電鍍(一般而言(yán)其最小組分應大於1%)。

電鍍設(shè)備

整平能力:整平(píng)能力(即微觀分散能力)是指在金屬表麵上形成鍍層時,鍍液所具有的能使鍍層的微觀輪廓比基體表麵(miàn)更平滑的能力。它表達了基體(tǐ)金屬的粗糙度比較小,波穴的深度小於0.5mm,波峰與波穀的(de)距(jù)離很小的表麵上鍍層(céng)分布的均勻性。
針孔或麻點:氫氣呈氣泡形式粘附在陰極表麵上,阻止金屬在這些部位沉(chén)積,它隻(zhī)能沉(chén)積在氣泡的周圍,如果氫氣泡在整個電鍍過程中(zhōng)一直停留在陰極表麵,則鍍好的鍍層就會有空洞或貫通的縫隙;若氫氣泡在電鍍過程中粘附得不牢固,而是間歇交替地逸出和粘附,那麽這些部位將形成淺坑或點穴,在電鍍工業中通常稱它為針孔或麻點。
鼓泡電鍍設備電(diàn)鍍以(yǐ)後,當周圍介質的溫度升高時,聚(jù)集在基體(tǐ)金屬(shǔ)內的吸附氫會膨(péng)脹而使鍍層產生(shēng)小鼓泡,嚴(yán)重地影響著鍍層的質(zhì)量(liàng)。這種現象在電鍍鋅、鎘、鉛等金屬時尤為明顯。
覆蓋能力:覆蓋能力(或深鍍能力)也是鍍液的一個重要性能指標,是指在一定(dìng)的(de)電解條件下(xià)使(shǐ)沉積金屬在陰極零件表麵全部覆蓋的能(néng)力,即在特定條件下於凹槽或深孔中沉積金屬鍍層的(de)能力,它是指鍍層在零件上(shàng)分布的(de)完整程度(dù)。
氫脆:氫離(lí)子在陰極還原後,一部分形(xíng)成氫(qīng)氣逸出,一部分以原子(zǐ)氫的狀態滲入基體金屬(尤其是高強度金屬(shǔ)材料)及鍍層中,使基(jī)體金屬及鍍層的韌性下降而變脆,這種現象(xiàng)叫做“氫脆(cuì)”。



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