電（diàn）鍍設備鎳溶液中雜質（zhì）的（de）影響（xiǎng）和去除

電鍍設備生產廠家鍍（dù）鎳（niè）溶液的純淨度要求較高，受外來（lái）雜質汙染後，電鍍鎳（niè）層質量會有很大的影響。

例如某（mǒu）廠鍍（dù）鎳（niè）零件的大電（diàn）流處泛有黑（hēi）色小點(鍍件的下麵部（bù）位及其周邊)，而小電流處呈灰黑（hēi）色(鍍件的中心部位（wèi）和深凹部位)，廠（chǎng）方錯誤（wù）地認為是受到（dào）有機雜質汙染（rǎn）進行處理，結果鍍鎳層故障未見好轉。其實這種情（qíng）況並不是（shì）溶液中有有機物，因為有機雜質會使鎳（niè）鍍層烏亮、結（jié）合力明顯（xiǎn）降低，而電鍍（dù）鎳層表麵出（chū）現黑點和灰黑色有可能受到金（jīn）屬雜質的（de）汙染，尤其是受到鉛雜質的汙染可能性更（gèng）大。現場考察發現鍍槽是老式鉛襯裏槽，液麵以下部位發現附有一層黃褐色可擦去的掛霜(鉛的氧化物)，此鉛襯裏槽與一塊鎳板（bǎn）斜倚在槽壁，使得上部陽極鎳板正好觸及這塊（kuài）鎳板的腰部，當電流通（tōng）過陽極板（bǎn）傳到掉入槽底鎳板（bǎn）上，然後又把電流傳到鉛（qiān）襯槽，此時鉛（qiān）襯槽就成了陽極，受到氧（yǎng）化（huà）產生黃褐色的（de）氧化鉛，其中部（bù）分鉛離子就進入鍍液，產生鍍層發黑（hēi）的故障。鍍鎳液受鉛離子汙染目前多按電解法處理。先將溶液抽出來，把槽壁和陽極表麵的氧化鉛洗刷幹淨，然後將溶液過（guò）濾後回入槽內（nèi），以0.1A/dm2～0.2A/dm2的電流密（mì）度先處理3晝夜，到第4天按正常工藝條件試鍍，故障排除。

這個（gè）實際（jì）故障說明電鍍溶液的維（wéi）護與保養是很重要的，尤其是鍍液雜質的影響、雜質（zhì）的來源非常複雜，出了故障要慎重考慮故障原因，加強檢查和分析，才能采取相應措（cuò）施，決不可盲（máng）目（mù）處理，否則必然會走彎路，電鍍故障得不到及時（shí）排除。

1 銅雜質的影響和去除

鍍鎳液中銅雜質（zhì）含量低可使低（dī）電流密度區鍍鎳層灰暗、粗糙;含量（liàng）高（gāo）可使低電流密度區鍍層發（fā）黑，出現（xiàn）海綿狀鍍（dù）層。二般光亮鍍鎳液中銅（tóng）雜質含量不允許超過0.01g/L;普通鍍鎳液由於pH值稍高，也不超過0.3g/L。對少量銅雜質鍍（dù）鎳液，可用電解法去除(pH=2左右，Dk=0.1A/dm2～0.3A/dm2)。電（diàn）鍍設備較多銅雜（zá）質可用亞鐵氰化鈉化學方進行處理：

2Cu2++Na4[Fe(CN)6]→Cu2[Fe(CN)6]↓十4Na+

去除方法是向故障鍍鎳液（yè）中加入溶解好的亞鐵（tiě）氰化鈉溶液，劇烈攪拌約30min，然後過濾除去沉澱即（jí）可試（shì）鍍。

2 鋅雜（zá）質的影（yǐng）響和去除

鍍鎳液中鋅雜質在0.02g/L～0.06g/L之間，獲得的電鍍鎳層亮而發（fā）脆;當鍍液中（zhōng）鋅雜質含量大於0.06g/L時，低電流密度區鍍層呈灰黑色，更高含量鋅可使電鍍鎳層產（chǎn）生條紋和針孔。鋅雜質也可用電解法處理，但效果不明顯。鍍液中若鋅雜（zá）質含量少可（kě）用市售掩蔽劑（jì）進行掩蔽，如鍍鎳液中含鋅l2.5mg/L～50mg/L，可用0.8mg/L～2mg/L的NT掩蔽劑進（jìn）行處理（lǐ）。一些新的（de）掩蔽劑既可以掩蔽鍍鎳液中的鋅雜質，又（yòu）可以掩蔽銅雜質。當鍍鎳液被鋅（xīn）雜質或鋅雜（zá）質和（hé）銅雜質同時汙染時，加入這種掩（yǎn）蔽劑，就可以排除鍍鎳液中鋅和錒雜質的影響。

當鍍（dù）鎳（niè）液中鋅雜質含量較高時，可先用CaCO3(或BaCO3)，提高鍍（dù）液pH至5.5左右，再用NaOH[或Ni(OH)2]提高鍍液pH值至6.2，加熱至65℃～70℃，攪拌30min～60min，靜置（zhì）後過濾。

若采用CaCO3，提高鍍液的pH值，反應後可生成CaSO4，在低溫時硫酸鈣溶（róng）解（jiě）度大(0℃時為0.75，100℃時為0.15)，所以應趁熱過濾。如待（dài）鍍液（yè）冷卻後再過濾，則沉澱的硫酸鈣將重新溶解，這種溶解的硫酸鈣，在電鍍時將會使鍍鎳層產生類似針（zhēn）狀的粗糙表麵。

3 鐵雜質的影響和去除

因為鍍鎳液中（zhōng）的（de）鐵（tiě）在pH>4.7時就能形（xíng）成（chéng）氫氧化物沉澱，並夾雜在鍍鎳層中而使鍍層粗糙、出（chū）現針孔和脆（cuì）性增大，鍍層的孔隙（xì）率增加，光亮度（dù）下降。所以在光（guāng）亮鍍鎳液中，Fe3+含量不允許（xǔ）大（dà）於（yú）0.08g/L。

去除鍍鎳液中的鐵雜質，一般也是用高pH值處理。先加30%的雙氧水1mL/L，將Fe2+氧化為Fe3十，然後加熱至65℃～70℃，加入CaCO3(或BaCO3)提高pH值至5.5左右，攪拌（bàn）30min～60min，趁（chèn）熱過濾除去（qù）沉澱，再（zài）調整鍍鎳液的pH值和成分後，即可正常鍍鎳。

4 六價鉻的影響和去除

鍍鎳液中六價鉻離子會顯著降低陰極電流效率，在六價鉻離子含（hán）量達（dá）0.01g/L時，陰極（jí）電流效率約降低5%～l0%，鍍液中六（liù）價鉻離子含量更高時，低電流密度區鍍不上（shàng）鍍層，高電流密度處鍍層脆裂。嚴（yán）重時整個陰極（jí）表麵上得不到鎳層（céng）。

去除六價鉻離子可用保險粉法、硫酸亞鐵法或高錳酸鉀法等。

5 硝酸根的影響（xiǎng）和去除（chú）

硝酸根對（duì）鍍鎳的影（yǐng）響較大，它能顯著降低陰極電流效率。少量硝（xiāo）酸根，能使低電流密度處鍍不上鎳（niè）鍍（dù）層;稍多一些的硝酸（suān）根能使鍍鎳層光澤變差，高（gāo）電流密度區出現黑色條紋;更多的硝酸根（gēn）就會使整個零件鍍不上鎳層。

去除硝酸根可以采用電解法，電解（jiě）去除鍍鎳液中的硝酸根以低pH值和高溫為（wéi）好。低pH值有利於硝酸（suān）根在陰（yīn）極上（shàng）的（de）還原，高溫可以使硝酸（suān）根還原產生的氣體在（zài）溶液中的溶解度降低，防（fáng）止它溶（róng）入（rù）後重新汙染鍍鎳液，所（suǒ）以一般電解去除硝酸根的（de）條件為：鍍液pH=1～2，溫度60℃～70℃，陰極電流密（mì）度先用lA/dm2～2A/dm2，使NO3-在陰極還原（yuán）為NH3逸出，然後逐漸降低至0.2A/dm2，直至鍍液正常為（wéi）止。

但是此法缺點是電解費時費工，對連續（xù）生產的自（zì）動線或手工生產（chǎn）應付急件，都令人頭痛（tòng）;鍍（dù）鎳液調（diào）低pH值容易，要調回到允許值則很（hěn）麻煩，要麽加碳酸鋇後徹底過濾（lǜ），要麽用5%以下苛性鈉稀溶液在強烈攪拌下慢慢加入。此（cǐ）時，鍍液衝稀不少，體積大增;要麽急於求成，主鹽鎳離子成（chéng）氫氧化鎳沉澱損失不少。有人加人對鍍液無害的（de）還（hái）原劑(NaHSO3稀溶液（yè）)，靠氧化還原反應直接去除硝酸根取得了很好效果（guǒ）：電鍍設備第一步，通過霍耳槽試驗（yàn）確定應加入的NaHSO3量;第二步，按計算量的110%在不斷強烈攪拌下慢慢加入稀（xī）NaHSO3溶液(以減少因生成SO2而過量消耗的HSO3-)，繼（jì）續攪（jiǎo）拌（bàn）約5min;第三（sān）步，按lmL/L～2mL/L量加入（rù）30%的H2O2，加溫(也可直接在（zài）熱的鍍鎳液中處理)到55℃～60℃;攪拌反應約lh，氧化殘存（cún）的NaHS03並分解多餘的H2O2。無需過濾、調pH值到工（gōng）藝範圍即可試鍍(光亮劑依情況調整)。大生產應用效（xiào）果良好，處理一次耗（hào）時2h左右，物耗也很小。

6 有機雜質的影（yǐng）響和去除（chú）

鍍鎳液中有機雜質（zhì）的種類很多，影響也不相同（tóng），有的使鎳層發霧、發花、變暗，有的卻使鎳（niè）層亮而發脆（cuì），還有的使鍍鎳層產生針孔或產生橘皮狀。去除鍍鎳液中的有機夾雜可以采取雙氧水一活性炭、高錳酸鉀一活性炭等方法去除。如雙氧水一活性炭處理的具（jù）體（tǐ）處理方法為：用硫酸調鍍液pH=3.5，向其（qí）加人30%的雙（shuāng）氧水1mL/L～3mL/L，加熱鍍（dù）液至（zhì）65℃～70℃，攪拌30min～60min;然（rán）後再加入3g/L～5g/L活性炭，攪拌30min左右後靜（jìng）置過濾;分析化驗調整鍍鎳液成分及pH值後試鍍。

7 油類雜質的影（yǐng）響和去除

油類雜（zá）質會使鍍鎳層發花、發霧，產生針孔，嚴重時（shí）影響鍍（dù）層的結合力。這（zhè）類雜質（zhì）的去除方法是：將鍍鎳液加熱至60℃左右;在攪拌下加人0.8g/L～1g/L十二烷基硫酸鈉，繼續攪拌60min(使（shǐ）十二烷基硫酸鈉對油類雜質起乳化（huà）作用);再加入3g/L～5g/L活性炭（tàn），攪（jiǎo）拌30min後（hòu）靜置過濾;分析化（huà）驗調整鍍液成分後試鍍。