電鍍設備拋光液的組成及其他影（yǐng）響因素

    電鍍設（shè）備化（huà）學拋光是（shì）指在合適的溶液（yè）中，不使用外接電源，依靠化學浸蝕作用對工件進行的拋（pāo）光。在化學拋光過程中（zhōng），由於金屬微觀表麵形成了不均勻的鈍化膜（mó），或由於形成（chéng）了（le）類似電解拋光過（guò）程中所形成的稠質黏膜，從而使表麵微觀凸出部（bù）分的溶解速度（dù）顯著大於微觀凹入部分，因此降低（dī）了零件的表麵顯微粗糙程度，使零件表（biǎo）麵比較光亮和（hé）平整。化學拋光廣泛應用於不鏽鋼（gāng）、銅及鋁合（hé）金等的拋光，還用於對一些零（líng）件做裝飾加（jiā）工。化（huà）學拋光可作為電鍍前的處理工（gōng）序，也可在拋光後輔以（yǐ）必要的防護措施而直接使用。

     電鍍設備（bèi）拋（pāo）光（guāng）液組成：為（wéi）了保證化學拋光的效果，必須使金屬表麵溶解，並在表麵形成前述的（de）液體膜（mó）或固體膜。化學拋光液的基本組成一般包括腐蝕劑、氧化劑（jì）、添加劑和水。其中，腐蝕劑是主要成分，主要使工件在溶液中（zhōng）溶解;氧（yǎng）化劑和添加劑可（kě）抑製腐（fǔ）蝕過（guò）程，使反應朝有（yǒu）利於拋光（guāng）的方向（xiàng）進行;水（shuǐ）對溶液（yè）濃度起調節作用，便於反應產物（wù）的擴散。

      電（diàn）鍍設備用（yòng）作金屬溶解的成分一般是酸（suān），其中（zhōng）用（yòng）得較多的是H2S04、HN03、HC1、H3PO。、HF等強酸，而對鋁那樣的兩性金屬，也可用NaOH，在（zài）這些（xiē）酸中由於高濃度的磷酸和硫酸都（dōu）具有較高的黏度，可形成液體膜擴散層，故這種成分具有兩種功能。這（zhè）也是在化（huà）學拋光液的組成中主要采用磷酸和硫酸的原因。為了提高（gāo）黏度，使擴散層（céng）容易形成，也可加進明膠或甘油等能提高黏度的添加劑（jì）。為了促進固體膜（mó）的形成，則（zé）需加（jiā）入以硝酸或鉻酸為主（zhǔ）的強氧（yǎng）化劑。