電鍍設備的基（jī）本工藝要求

　　電鍍設備在（zài）含有欲（yù）鍍金屬的鹽類溶液中，以被鍍基體金屬為陰極（jí），通過電解作用（yòng），使鍍液中欲鍍金屬的陽離子在基體金屬外表堆積（jī）進去，形成鍍層的一種外（wài）表加工方法。鍍（dù）層性能不同（tóng）於基（jī）體金屬，具有新的特征。根據鍍層的功能分為防護性鍍層，裝飾性鍍（dù）層及其它功能性鍍層。電鍍設備廠（chǎng）家

 

　　折疊編輯本段（duàn）電鍍設備基本原理

　　工藝要求

　　1.鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間，應有良好的結合力。

　　2.鍍層應結晶細致、平整、厚度均勻。

　　3.鍍層應具有規定（dìng）的厚度和盡（jìn）可能少的孔隙。

　　4.鍍層應具（jù）有規定的各項指標，如光亮度、硬度、導電性（xìng）等。

　　5.電鍍時間及（jí）電鍍過（guò）程的溫度，決定鍍層厚度的（de）大小。

　　6.環境溫度為-10℃~60℃。

　　7.輸（shū）入電壓為220V±22V或380V±38V

　　8.水（shuǐ）處（chù）置設備最大工作噪聲應不大於80dBA

　　9.相對濕度(RH應不大於95%

　　10.原水COD含量為100mg/L~150000mg/L