電鍍設備銅中氯離子消耗過大（dà）的（de）原因

電鍍設備鍍銅時（shí）線（xiàn）路板（bǎn）板麵的低電流區出現"無光澤"現象，氯方子濃度偏（piān）低;一（yī）般通過添加鹽酸後，板麵低電流密度區的（de）鍍層"無光澤（zé）"現象才能消失，鍍液中的氯離子濃度才（cái）能達到正常範圍（wéi），板麵鍍層光亮（liàng）。如果（guǒ）要（yào）通過添加大量鹽酸來解（jiě）決低電流密度區鍍層"無光澤"現象，就不一定是氯離子濃度太低（dī）而造成的，需分析其真正的原因。如果采取添加大量鹽酸：一來，可能會產（chǎn）生其它後果，二來增加生產成本，不利於企業競爭（zhēng）。

通過添加大量的鹽酸（suān）來消除"低電流密度區鍍層不光亮"現象，說明如（rú）是氯離子過（guò）少，才需添加鹽酸來增加氯離子的（de）濃（nóng）度達到正常範圍，使低電流密度區鍍層光亮。如果要添加成倍的鹽酸才能使氯離子的濃度達到正常範圍?是什麽在消耗大量的氯（lǜ）離子呢?氯離子濃度太高會使光亮劑消耗快。說明氯離子與光亮（liàng）劑會產生反應，過量的氯離子會消（xiāo）耗;反（fǎn）過（guò）來，過量的光亮（liàng）劑也消耗（hào）氯離（lí）子。因（yīn）為氯離子過少和光亮劑過量（liàng）都是造（zào）成低電（diàn）流密度區鍍層不光亮"的主要（yào）原因，因此可見，造成"鍍銅中氯離子消耗過大的主要原因是光亮劑濃度（dù）太高。

目前隨著印製線路板向高（gāo）密（mì）度、高（gāo）精度方向發（fā）展，電鍍設備對（duì）硫（liú）酸鹽鍍銅工藝提出了更加（jiā）嚴格的要求，電鍍設備必須同時控製好鍍銅工藝過程中（zhōng）的各種因素，才能獲得（dé）高品質的鍍層。